勻膠顯影機 型號：SC100-DE
　　SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備，它可以實現價值百萬美元設備（track）的上才可能達到穩定性和均勻性。 
 主要性能指標： 
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）  
旋涂程序：多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒  
轉動速度：0-10,000rpm（更高速可選）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）  
馬達旋涂轉速穩定性能誤差 < ±1rpm  
轉速調節精度<1rpm，重復性< 1rpm  
工藝時間設定： 0-3,000 sec/step，時間設置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）  
標準配置兩路噴液系統（顯影液和去離子水）